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          新啟航半導體有限公司


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          2026
          -
          09
          微觀形貌檢測:激光共聚焦局限與白光干涉儀技術優勢
          微觀形貌(Microscopic Morphology)檢測是高端制造質量管控的核心環節,廣泛用于半導體、高頻 PCB、骨科植入物等領域。激光共聚焦顯微鏡(Las...
          微觀形貌檢測:激光共聚焦局限與白光干涉儀技術優勢
          07
          2026
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          芯片 化學機械拋光 (CMP)粗糙度偏差,白光干涉儀校準全...
          化學機械拋光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)是先進半導體芯片制造中實現全局平坦化(Global Planarization)...
          芯片  化學機械拋光 (CMP)粗糙度偏差,白光干涉儀校準全局平坦化 (Global Planarization) 生產參數
          05
          2026
          -
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          直線度 ISO 12780 規范 共聚焦顯微鏡缺陷與白光干涉...
          直線度(Straightness)是精密零部件形位公差關鍵指標,ISO?12780 規定了直線度的取樣、濾波與評定準則,廣泛應用于半導體、光學元器件等高精密制造質...
          直線度 ISO 12780 規范 共聚焦顯微鏡缺陷與白光干涉儀對策
          05
          2026
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          光學輪廓測量在冶金高溫熱風閥平面度檢測中的應用
          冶金高溫熱風閥(Metallurgical high-temperature hot air valve)是高爐熱風循環系統關鍵密封設備,其密封面平面度(seal...
          光學輪廓測量在冶金高溫熱風閥平面度檢測中的應用
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