白光干涉儀(White Light Interferometer,WLI)依托短相干光學(xué)原理,在微納形貌表征領(lǐng)域已實(shí)現(xiàn)亞納米垂直測(cè)量能力。行業(yè)評(píng)價(jià)體系常過(guò)度聚焦單點(diǎn)極限精度指標(biāo),而忽略取樣范圍的代表性,易形成以局部微區(qū)數(shù)據(jù)代替工件全域表面狀態(tài)的評(píng)價(jià)偏差,與ISO?25178、ISO?4287表面形貌取樣評(píng)定規(guī)范存在沖突。
小視場(chǎng)高倍物鏡雖可輸出Sa、Ra、PV等精細(xì)形貌參數(shù),但取樣面積受限。采用圖像拼接(Image Stitching)拓展測(cè)量范圍時(shí),運(yùn)動(dòng)平臺(tái)機(jī)械誤差(Mechanical Error)會(huì)引入形貌錯(cuò)位、畸變偽像,降低測(cè)量重復(fù)性(Repeatability),難以滿足大面積樣品的全域統(tǒng)計(jì)表征需求。
大視場(chǎng)(Large Field-of-View)協(xié)同測(cè)量,指在保留有效測(cè)量精度前提下,單幀獲取更大物方區(qū)域形貌,實(shí)現(xiàn)宏觀面形與微觀粗糙度信息同步采集。該方案適配MEMS器件、鈣鈦礦薄膜、高頻覆銅板(CCL)、光學(xué)鏡片與半導(dǎo)體載板檢測(cè)場(chǎng)景,可識(shí)別區(qū)域間形貌不均勻性,獲取具備統(tǒng)計(jì)代表性的數(shù)據(jù)集,支撐工藝缺陷溯源與制程穩(wěn)定性評(píng)估。
大視場(chǎng)協(xié)同測(cè)量并非舍棄精度,而是建立“全域形貌+局部高精度”的協(xié)同表征框架,兼顧工程質(zhì)控與科研評(píng)價(jià)邏輯。相較于單純追求單點(diǎn)極限精度,該模式更符合精密制造表面評(píng)價(jià)的科學(xué)本質(zhì),為大面積微納構(gòu)件的工藝迭代提供可靠數(shù)據(jù)支撐。
大視場(chǎng)3D白光干涉儀核心技術(shù)優(yōu)勢(shì)
大視場(chǎng)3D白光干涉儀(WLI)適配半導(dǎo)體、精密光學(xué)、高端精密加工等高精度檢測(cè)場(chǎng)景,彌補(bǔ)傳統(tǒng)干涉儀視場(chǎng)狹小、低倍倍率缺失的行業(yè)短板,兼具大視野觀測(cè)能力與納米級(jí)測(cè)量精度,可一站式完成工件形貌表征、尺寸檢測(cè)與微觀缺陷分析,完全契合工業(yè)質(zhì)控與科研精密測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)。

3、1 大視場(chǎng)與高精度一體化測(cè)量
設(shè)備搭載專屬0、6×大視場(chǎng)輕量化物鏡,打破傳統(tǒng)干涉儀1×倍率起步的局限,官方標(biāo)定最大成像視場(chǎng)可達(dá)15、5mm。依托一體化電動(dòng)轉(zhuǎn)塔設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)宏觀形貌觀測(cè)與納米級(jí)微觀精密測(cè)量無(wú)縫切換,無(wú)需更換設(shè)備與鏡頭,有效提升批量檢測(cè)效率與數(shù)據(jù)一致性,適配半導(dǎo)體芯片、超精密光學(xué)部件的高精度檢測(cè)需求。

設(shè)備可穩(wěn)定完成14mm端面平面度精準(zhǔn)檢測(cè),精準(zhǔn)把控精密部件平面精度;具備0、006nm超精密粗糙度檢測(cè)能力,可精準(zhǔn)檢測(cè)工件Ra、Rz等核心粗糙度指標(biāo),滿足超精密器件嚴(yán)苛的微米、納米級(jí)測(cè)量要求。

(鏡頭光路是按理想球面 / 非球面計(jì)算的,PV/RMS 超標(biāo),實(shí)際光路偏離設(shè)計(jì)值,焦距、視場(chǎng)、分辨率等參數(shù)全部失效,整組鏡頭無(wú)法達(dá)標(biāo))

(4寸 CMP 金剛石研磨碟盤的顆粒共面度(金剛石出露高度一致性),直接決定 CMP 拋光墊修整均勻性、晶圓良率與碟盤壽命)

(平面度超標(biāo):端面存在翹曲、凹凸,壓緊后出現(xiàn)微小縫隙,高壓燃油滲漏。輕則燃油泄漏、油耗上升,重則滲漏油積碳、部件銹蝕,甚至高壓油噴射引發(fā)安全隱患)
新啟航半導(dǎo)體|專業(yè)白光干涉 3D 輪廓測(cè)量方案。亞納米精度保障,支持自動(dòng)化定制;高端系列對(duì)標(biāo)國(guó)際一線品牌,大視野設(shè)計(jì),輕松應(yīng)對(duì)高低反射、復(fù)雜材料測(cè)量場(chǎng)景。

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