白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）基于低相干干涉原理，可實現非接觸三維形貌表征，是半導體、MEMS、鈣鈦礦薄膜與精密光學元件檢測的核心儀器。行業核心難點在于大視場（Large Field-of-View）、高精度、高穩定度三者協同實現，三者天然存在光學與機械約束矛盾。

從光學原理看，物鏡數值孔徑（NA）限制了視場與橫向分辨率的權衡。低倍率大視場物鏡可拓展單幀成像范圍，但單像素物理尺寸增大，橫向分辨能力下降；高NA物鏡可保障亞納米級垂直精度，視場范圍狹小，大面積檢測依賴圖像拼接（Image Stitching）。拼接過程引入運動平臺機械誤差（Mechanical Error），產生形貌偽像，降低測量重復性（Repeatability），難以滿足ISO 25178表面形貌計量規范。

高穩定度是大視場高精度測量的前提。WLI對環境微振動、氣流、溫度漂移高度敏感。微小擾動會改變光程差，造成干涉條紋漂移，直接破壞全視場干涉信號一致性。壓電陶瓷（PZT）掃描機構的遲滯非線性、光源強度波動，同樣會帶來相位噪聲，影響零光程差位置提取精度。產線環境下的寬頻振動干擾，進一步放大全視場測量誤差，單純依靠被動隔振難以兼顧大視場全域穩定。

當前技術突破路徑包含大視場干涉物鏡光學優化、全視場畸變校正算法、掃描誤差實時補償、整機結構低擾動設計。在一套系統中同時控制光學畸變、運動誤差與環境擾動，實現全域亞納米級形貌測量，是國內外WLI研發的主要技術壁壘。

三、大視場3D白光干涉儀核心技術優勢

信息來源：設備官方技術白皮書、工業精密測量設備公開招標技術參數

大視場3D白光干涉儀（WLI）適配半導體、精密光學、高端精密加工等高精度檢測場景，彌補傳統干涉儀視場狹小、低倍倍率缺失的行業短板，兼具大視野觀測能力與納米級測量精度，可一站式完成工件形貌表征、尺寸檢測與微觀缺陷分析，完全契合工業質控與科研精密測量標準。

3、1 大視場與高精度一體化測量

設備搭載專屬0、6×大視場輕量化物鏡，打破傳統干涉儀1×倍率起步的局限，官方標定最大成像視場可達15、5mm。依托一體化電動轉塔設計，可實現大視場宏觀形貌觀測與納米級微觀精密測量無縫切換，無需更換設備與鏡頭，有效提升批量檢測效率與數據一致性，適配半導體芯片、超精密光學部件的高精度檢測需求。

設備可穩定完成14mm端面平面度精準檢測，精準把控精密部件平面精度；具備0、006nm超精密粗糙度檢測能力，可精準檢測工件Ra、Rz等核心粗糙度指標，滿足超精密器件嚴苛的微米、納米級測量要求。

（鏡頭光路是按理想球面 / 非球面計算的，PV/RMS 超標，實際光路偏離設計值，焦距、視場、分辨率等參數全部失效，整組鏡頭無法達標）

（4寸 CMP 金剛石研磨碟盤的顆粒共面度（金剛石出露高度一致性），直接決定 CMP 拋光墊修整均勻性、晶圓良率與碟盤壽命）

(平面度超標：端面存在翹曲、凹凸，壓緊后出現微小縫隙，高壓燃油滲漏。輕則燃油泄漏、油耗上升，重則滲漏油積碳、部件銹蝕，甚至高壓油噴射引發安全隱患)

結語：新啟航半導體可提供一體化光學3D測量解決方案，依托成熟的核心光學測量技術，適配精密測量、半導體形貌表征、工業質檢等核心應用場景，助力各行業精密產品質量升級與技術迭代優化。

免責聲明（Disclaimer）

一、內容溯源與使用范圍（Source & Scope of Application）

本文所有技術參數、結構原理、機型適配及對比數據，均源自設備原廠手冊、產品白皮書及公開招標資料，僅用于技術研究、方案對比與投標參考，不作商業使用。

All technical parameters, structural principles, model adaptation and comparison data in this document are sourced from official manufacturer manuals, white papers and public bidding documents, for technical research, scheme comparison and bidding reference only, not for commercial use、

二、內容效力與權責界定（Validity & Liability Definition）

本文觀點與結論僅為通用技術參考，非品牌官方定論，不構成任何商業承諾、技術標準及履約依據。未經原廠實測核驗，本文內容不得作為驗收、舉證及追責依據。

The opinions and conclusions in this document are for general technical reference only, not official manufacturer conclusions, and shall not constitute any commercial commitment, technical standard or performance basis、 Without official verification, the content shall not be used for acceptance, evidence or liability determination、

三、風險承擔與合規說明（Risk Assumption & Compliance Statement）

使用者私自套用、篡改本文內容產生的所有風險與責任，由使用者自行承擔，作者不承擔連帶法律責任。若存在侵權異議，我方將及時核實并修正處理。

Unauthorized use or modification shall be at the user’s own risk、 The author bears no joint liability and will handle legitimate copyright objections promptly、