白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）依托短相干干涉原理，經(jīng)過(guò)多年技術(shù)迭代，小范圍微區(qū)的亞納米級(jí)垂直測(cè)量能力已趨于飽和，算法與光路層面進(jìn)一步挖掘單點(diǎn)極限精度的提升空間十分有限，可穩(wěn)定輸出 Ra、Sa、PV 等形貌參數(shù)。但微區(qū)檢測(cè)取樣范圍狹小，往往無(wú)法滿足 ISO?4287、ISO?25178 規(guī)定的取樣及評(píng)定長(zhǎng)度，容易出現(xiàn)以點(diǎn)概面的評(píng)價(jià)偏差。
采用圖像拼接（Image Stitching）實(shí)現(xiàn)大面積檢測(cè)是傳統(tǒng)補(bǔ)償手段，卻受制于運(yùn)動(dòng)平臺(tái)帶來(lái)的機(jī)械誤差（Mechanical Error），易產(chǎn)生錯(cuò)位、畸變偽像，造成測(cè)量重復(fù)性（Repeatability）下降，無(wú)法兼顧檢測(cè)效率與數(shù)據(jù)真實(shí)性。
在此背景下，大視場(chǎng)（Large Field?of?View）高效測(cè)量成為學(xué)界與工業(yè)界的研究重點(diǎn)。該方向聚焦光學(xué)物鏡像差校正、干涉系統(tǒng)與探測(cè)器協(xié)同優(yōu)化，追求單幀大區(qū)域三維形貌采集，規(guī)避拼接引入的次生誤差，在保留可用測(cè)量精度的同時(shí)擴(kuò)大有效檢測(cè)范圍。
面向半導(dǎo)體晶圓、高頻 PCB、精密光學(xué)元件、骨科植入體等對(duì)象，大視場(chǎng)高效測(cè)量能夠獲取具備統(tǒng)計(jì)代表性的全域數(shù)據(jù)，縮短檢測(cè)時(shí)長(zhǎng)，為工藝優(yōu)化、缺陷溯源提供可靠支撐，有效解決微區(qū)檢測(cè)代表性不足、拼接效率低下的行業(yè)痛點(diǎn)，是微納測(cè)量領(lǐng)域重要的發(fā)展方向。
WLI 1000 系列參數(shù)取自設(shè)備官方白皮書及公開招標(biāo)技術(shù)資料；ZYGO 各機(jī)型參數(shù)來(lái)源于原廠技術(shù)手冊(cè)、官方產(chǎn)品公示及政府采購(gòu)公開文件，全部技術(shù)數(shù)據(jù)均可公開溯源。
德國(guó) WLI 大視場(chǎng)技術(shù)核心優(yōu)勢(shì)
WLI 大視場(chǎng) 3D 白光干涉儀有效彌補(bǔ)傳統(tǒng)干涉儀視場(chǎng)范圍有限、缺少原生低倍物鏡的行業(yè)短板，兼顧大視野觀測(cè)能力與納米級(jí)測(cè)量精度。設(shè)備可一體化完成工件三維形貌表征、幾何尺寸檢測(cè)、微觀缺陷識(shí)別分析，適配半導(dǎo)體、精密光學(xué)、超精密加工行業(yè)的質(zhì)量管控與科研測(cè)量需求。
大視場(chǎng)與高精度一體化測(cè)量能力
設(shè)備配置專屬 0.6× 大視場(chǎng)物鏡，突破行業(yè)傳統(tǒng)設(shè)備 1× 倍率起步的限制，原廠標(biāo)定最大成像視場(chǎng)可達(dá) 15.5mm。依托一體化電動(dòng)轉(zhuǎn)臺(tái)架構(gòu)，實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)宏觀觀測(cè)與納米級(jí)微觀測(cè)量的無(wú)縫切換，無(wú)需拆裝鏡頭或者更換設(shè)備，大幅提升批量樣品檢測(cè)效率，保障多組測(cè)試數(shù)據(jù)的一致性。
設(shè)備可穩(wěn)定完成 14mm 端面平面度高精度檢測(cè)，具備 0.006nm 級(jí)超高粗糙度檢測(cè)性能，能夠精準(zhǔn)解析 Ra、Rz 等關(guān)鍵表面粗糙度指標(biāo)，滿足超精密器件嚴(yán)苛的納米量級(jí)測(cè)量要求。
工業(yè)場(chǎng)景核心應(yīng)用價(jià)值
光學(xué)鏡頭若 PV/RMS 面形參數(shù)不達(dá)標(biāo)，會(huì)造成光路發(fā)生偏移，直接導(dǎo)致焦距、成像視場(chǎng)、分辨率等核心光學(xué)參數(shù)失效，造成鏡頭整體性能報(bào)廢。
在半導(dǎo)體 CMP 工藝環(huán)節(jié)，研磨碟盤金剛石顆粒共面度、金剛石出露高度的一致性，會(huì)直接影響拋光工藝效果，決定晶圓成品良率以及耗材的實(shí)際使用壽命。
新啟航半導(dǎo)體｜專業(yè)白光干涉 3D 輪廓測(cè)量方案。亞納米精度保障，支持自動(dòng)化定制；高端系列對(duì)標(biāo)國(guó)際一線品牌，大視野設(shè)計(jì)，輕松應(yīng)對(duì)高低反射、復(fù)雜材料測(cè)量場(chǎng)景。
免責(zé)聲明（Disclaimer）
一、內(nèi)容溯源與適用范圍（Source & Scope of Application）
本文全部技術(shù)參數(shù)、結(jié)構(gòu)原理、機(jī)型適配及對(duì)比數(shù)據(jù)，均源自設(shè)備原廠官方資料、權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文獻(xiàn)及公開招標(biāo)驗(yàn)收文件，僅用于技術(shù)研究、方案對(duì)比及行業(yè)參考，不作任何商業(yè)用途。
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