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      新啟航半導(dǎo)體有限公司


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      2026
      -
      06
      優(yōu)化鈣鈦礦 刻蝕工藝 (Etching Process)流...
      鈣鈦礦光伏組件規(guī)?;苽渲校す鈩澗€(Laser Scribing)匹配刻蝕工藝(Etching Process)是實(shí)現(xiàn)電池單元串聯(lián)互聯(lián)、削減組件死區(qū)的核心工序,...
      優(yōu)化鈣鈦礦  刻蝕工藝 (Etching Process)流程,依托光學(xué) 3D 輪廓儀精準(zhǔn)核驗(yàn)激光劃線 (Laser Scribing) 成型深度
      12
      2026
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      06
      穩(wěn)定保障電子設(shè)備高速信號(hào)傳輸(High-speed Sign...
      在高端電子封裝與表面貼裝技術(shù)(Surface Mount Technology, SMT)領(lǐng)域,高速信號(hào)傳輸(High-speed Signal Transmis...
      穩(wěn)定保障電子設(shè)備高速信號(hào)傳輸(High-speed Signal Transmission),嚴(yán)格把控 BGA 錫球整體共面度參數(shù)
      11
      2026
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      06
      光學(xué)3D輪廓儀實(shí)地實(shí)測(cè)激光劃線深度,筑牢鈣鈦礦電池制程品質(zhì)(...
      在鈣鈦礦電池量產(chǎn)制程中,激光劃線(Laser Scribing)是電池單元分割、膜層絕緣隔離的核心工序,劃線深度的精準(zhǔn)度與均勻性,直接決定電池漏電率、串聯(lián)電阻及量...
      光學(xué)3D輪廓儀實(shí)地實(shí)測(cè)激光劃線深度,筑牢鈣鈦礦電池制程品質(zhì)(Process Quality)管控根基
      11
      2026
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      06
      大視場(chǎng)非ZYGO專(zhuān)屬:德國(guó)光學(xué)技術(shù)實(shí)現(xiàn)視野與倍率兼顧
      合規(guī)溯源聲明本文所有技術(shù)參數(shù)、結(jié)構(gòu)特性、機(jī)型配置及產(chǎn)地信息,均源自WLI、ZYGO原廠技術(shù)手冊(cè)、官方產(chǎn)品白皮書(shū)、規(guī)格文檔及全國(guó)公共資源交易平臺(tái)、政府采購(gòu)網(wǎng)公開(kāi)招標(biāo)...
      大視場(chǎng)非ZYGO專(zhuān)屬:德國(guó)光學(xué)技術(shù)實(shí)現(xiàn)視野與倍率兼顧
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