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白光干涉儀微區精度已趨飽和，大視場高效測量成為當前研究重點

白光干涉儀（White Light Interferometer，WLI）基于短相干干涉機制，經過長期技術迭代，微區條件下亞納米級垂直測量精度已經趨于技術飽和，依...

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2026

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USI白光掃描多層微納工件形貌檢測數據異常機理分析

本文依據設備官方技術手冊及工業實測公開數據，聚焦通用掃描干涉算法（Universal Scanning Interferometry, USI）在半導體低反透明介...

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2026

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高頻板材銅箔粗糙度過大，白光干涉儀削弱 集膚效應 (Ski...

高頻印制電路板（Printed Circuit Board, PCB）高速信號傳輸過程中存在集膚效應（Skin Effect），交變電流僅沿導體表層流動，且信號頻...

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2026

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09

白光干涉儀微區精度已趨飽和大視場高效測量成為當前研究重點

白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）依托短相干干涉原理，經過多年技術迭代，小范圍微區的亞納米級垂直測量能力已趨于飽和，算法...

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